1、光刻就是在晶圆板上均匀的覆盖上一层光刻胶，然后利用光源对于这种光刻胶按照电路图进行照射腐蚀之后再将光刻胶进行刻蚀，就能完成电路的刻画。而冰刻就是将这个过程中的光刻胶用冰来代替，而光源用电子束来代替，以谋求完成对于光刻机的替代。

2、另外，光刻机中决定雕刻精度的就是光刻机的光源分辨率，而在冰刻技术中，这种分辨率就取决于电子束刻机。目前在全球范围内，电子束刻机的精度已经能够达到10纳米以下的水平，但如果想要做到完全的自主化，就要用国内的电子束刻机，只是国内的电子束刻机精度最高只能达到1微米，这也变相的说明了目前的冰刻技术是没办法替代光刻机的。